半導體廢水處理方法
來源:本站日期:2022-11-08 01:00:34 瀏覽:1085
電子半導體的迅速發(fā)展,有利有弊,為什么這么說呢?電子市場的擴容對于工業(yè)、企業(yè)發(fā)展是一種驅(qū)動力,推動了經(jīng)濟社會的發(fā)展,但制造行業(yè)擴大,加工廠增加,電子半導體廢水排量增加,半導體廢水并不是隨意可以排放的,那么半導體廢水處理方法有哪些呢?
康景輝小編今天主要介紹一下半導體工業(yè)廢水處理方法,半導體廢水處理主要是用于半導體生產(chǎn)企業(yè)在生產(chǎn)過程中產(chǎn)生的廢水處理和回收利用。
半導體工業(yè)是一個十分依賴水資源的行業(yè),也是高耗水的行業(yè),尤其在目前,水資源有限的情形下,限水、缺水對半導體生產(chǎn)企業(yè)的營運產(chǎn)生巨大壓力。
因此,對半導體生產(chǎn)企業(yè)節(jié)約用水的研究與實踐,有助于提升用水效益,降低用水成本。目前,節(jié)約用水、中水回用、廢水的回收利用已成為半導體業(yè)者應對缺水危機的重要措施,特別是廢水的回收利用,既能減少對水資源的需求,又能降低企業(yè)的生產(chǎn)成本,同時也減少對環(huán)境的污染。
針對電子半導體污水處理方法有很多,生化法、物理法、物化法、化學法等等,都可以根據(jù)半導體廢水水質(zhì)情況進行處理,但吸附法、冷凍法、離子交換樹脂法、超濾法、電滲析法,在進行廢水處理時,相對成本較高,廢水去除達標排放率相對比較低。
電子半導體生產(chǎn)工藝復雜,工藝步驟高達300余步,同時會使用多種化學試劑以及特殊氣體,主要生產(chǎn)工序包括:硅片清洗、氧化、擴散、化學氣相沉積、光刻、去膠、干法刻蝕、濕法刻蝕、離子注入、金屬化鍍膜、化學機械拋光等等。
生產(chǎn)工序不同,所產(chǎn)生的電子半導體生產(chǎn)廢水也略有差異,對于產(chǎn)生的電鍍廢水、含氟廢水、重金屬廢水等,康景輝針對電子半導體廢水產(chǎn)生途徑以及根據(jù)半導體廢水的回收利用,選擇采用膜回收+蒸發(fā)結(jié)晶工藝。
對于半導體生產(chǎn)過程中,其他工序中產(chǎn)生的一些有機廢水、沖洗廢水,其含鹽量或者含重金屬物質(zhì)偏低時,可以考慮采用化學藥劑、生化法或者沉淀法等一些簡單的處理方式。
實際上每一種半導體廢水處理方法,都有其與眾不同的優(yōu)點,大伙兒需要依據(jù)自身的水質(zhì)情況,挑選更為合適自身的解決辦法。
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